プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-079675
公開番号（公開出願番号）：特開平7-256087
出願日： 1994年03月25日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：

【要約】【目的】炭素被膜の成膜等のプラズマ処理能力を向上させる。【構成】一方の電極を構成する円筒状のキャンロール103が回転することによって移送されるテープ状またはフィルム状の基体115の表面に、キャンロール103とキャンロール103に対して複数配置された電極105との間でプラズマ放電を起こしプラズマ処理を施す。基体115は連続的に移送されるので、その表面には連続的にプラズマ処理が行われる。

請求項（抜粋）：

円筒状を有した一方の電極と、前記一方の電極に対して設けられた複数の他方の電極とを有し、前記他方の電極は、前記一方の電極の表面に対して概略同心円上に配置されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

B01J 19/08 , C23C 16/26 , C23C 16/50 , H05H 1/46

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭61-097337
特開昭61-207445
特開昭59-226028

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