特許
J-GLOBAL ID:200903098144751464

水素の製造方法及び水素の製造システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (9件): 三枝 英二 ,  掛樋 悠路 ,  小原 健志 ,  中川 博司 ,  舘 泰光 ,  斎藤 健治 ,  藤井 淳 ,  関 仁士 ,  中野 睦子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-141636
公開番号(公開出願番号):特開2004-345874
出願日: 2003年05月20日
公開日(公表日): 2004年12月09日
要約:
【課題】本発明は、反応器後段の水素分離装置を必要とせず、比較的低温でエタノールを水蒸気改質することにより、高い水素収率かつ高い水素純度が達成されるエタノールの水蒸気改質による水素の製造方法を提供する。また、高いエネルギー効率(生成水素エネルギー/投入熱量)が達成される水素の製造システムを提供する。【解決手段】エタノールの水蒸気改質による水素の製造方法において、改質触媒と水素選択透過膜を有する改質装置を使用することを特徴とする水素の製造方法等に関する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
エタノールの水蒸気改質による水素の製造方法において、改質触媒と水素選択透過膜を有する改質装置を使用することを特徴とする水素の製造方法。
IPC (1件):
C01B3/32
FI (1件):
C01B3/32 A
Fターム (14件):
4G140EA02 ,  4G140EA06 ,  4G140EB03 ,  4G140EB12 ,  4G140EB16 ,  4G140EB19 ,  4G140EB23 ,  4G140EB37 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16 ,  5H027KK31 ,  5H027KK42 ,  5H027MM12
引用特許:
審査官引用 (2件)

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