特許

J-GLOBAL ID：200903098153554884

パターン形成材料

発明者： 久保田 繁 ,  熊田 輝彦 ,  田中 祥子 ,  堀辺 英夫 ,  肥塚 裕至
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-275149
公開番号（公開出願番号）：特開平5-113667
出願日： 1991年10月23日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、高精度の微細パターンを形成するために使用されるパターン形成用材料を提供するものである。【構成】 第1の発明は、化1で示される高分子化合物(a)と、放射線の照射を受けて酸または塩基を発生する化合物(b)とからなり、又第2の発明は、酸または塩基により分解してアルカリ可溶性になる化合物(c)を更に加えてなるパターン形成用材料である。【効果】 パターン形成時の露光部及び未露光部の溶解性の差を顕著にすることを可能とし、パターン微細化を高精度化し得る。

請求項（抜粋）：

化1で示される高分子化合物(a)と、【化1】放射線の照射を受けて酸または塩基を発生する化合物(b)と、からなるパターン形成用材料。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027