特許
J-GLOBAL ID：200903098160066542
低反射積層体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-318131
公開番号（公開出願番号）：特開平7-174901
出願日： 1993年12月17日
公開日（公表日）： 1995年07月14日
要約：
【要約】【目的】光学的特性と機械的特性に優れた低反射積層体を生産性良く得る。【構成】有機重合体フィルムよりなる基板の少なくとも一方の面上にハードコート層を設け、さらに基板より屈折率の高い高屈折率層と基板より屈折率の低い低屈折率層とを、ハードコート層上にこの順に設ける。その際に、高屈折率層はチタニウムアルコキシドおよび/またはジルコニウムアルコキシドによる塗液を、ハードコート層上に塗布した上で加水分解および加熱により形成し、低屈折率層は熱硬化型のシリコン系樹脂による塗液を、高屈折率層上に塗布した上で加熱硬化により形成する。かつ高屈折率層を形成する塗液は、炭素数5以上の炭化水素と炭素数3以上のアルコールとをアルコールの比率が10〜90重量%の割合で混合した溶媒に、アルコキシ基の炭素数が2〜6のチタニウムアルコキシドおよび/またはジルコニウムアルコキシドを溶かしたものを用いる。
請求項（抜粋）：
有機重合体フィルムよりなる基板の少なくとも一方の面上にハードコート層を設け、さらに基板より屈折率の高い高屈折率層と基板より屈折率の低い低屈折率層とを、ハードコート層上にこの順に設け、その際に高屈折率層と低屈折率層との光学膜厚は光干渉効果によって光の反射率が低くなるように選択して構成する低反射積層体の製造方法において、高屈折率層はチタニウムアルコキシドおよび/またはジルコニウムアルコキシドによる塗液を、ハードコート層上に塗布した上で加水分解および加熱により形成し、低屈折率層は熱硬化型のシリコン系樹脂による塗液を、高屈折率層上に塗布した上で加熱硬化により形成するものであり、かつ高屈折率層を形成する塗液は、炭素数5以上の炭化水素と炭素数3以上のアルコールとをアルコールの比率が10〜90重量%の割合で混合した溶媒に、アルコキシ基の炭素数が2〜6のチタニウムアルコキシドおよび/またはジルコニウムアルコキシドを溶かしたものであることを特徴とする低反射積層体の製造方法。
IPC (2件)：
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