特許

J-GLOBAL ID：200903098168590194

装飾体およびその製造方法

発明者： 小玉 英俊 ,  中山 鶴雄
出願人/特許権者： ぺんてる株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-182466
公開番号（公開出願番号）：特開2001-010296
出願日： 1999年06月28日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：

【要約】【課題】 レジスト膜やレジスト剥離用の塩素系溶剤を用いずに、立体的な凸パターンが形成された装飾体を提供すること。【解決手段】 少なくとも表面が導電性を有する基材と該導電性基材上に形成された金属膜との間に導電性樹脂からなる凸パターンが形成されてなる装飾体。

請求項（抜粋）：

少なくとも表面が導電性を有する基材と該導電性基材上に形成された金属膜との間に導電性樹脂からなる凸パターンが形成されてなる装飾体。

IPC (4件)：

B44C 1/20 ,  A45D 33/18 ,  B43K 3/00 ,  B44C 3/02

FI (4件)：

B44C 1/20 A ,  A45D 33/18 Z ,  B43K 3/00 N ,  B44C 3/02 A