特許
J-GLOBAL ID：200903098171648101
トリベンゾアゼピン化合物およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-277015
公開番号（公開出願番号）：特開2001-097953
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：
【要約】【課題】電子写真感光体や有機EL素子の電荷輸送剤として有用な化合物及びその製造法を提供する。【解決手段】式(II) の化合物の脱水反応を経由して式(I)の化合物を製造する。【化1】【化2】
請求項（抜粋）：
一般式(I)で表わされるトリベンゾアゼピン化合物を製造するにあたり、一般式(II)で表される化合物の脱水反応を経由することを特徴とする製造方法。【化1】(式中、Yは水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルカンスルホニル基またはアレンスルホニル基を表す。R1 およびR2 は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホルミル基、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基またはアミノ基を表し、R3 、R4 、R5 およびR6 は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。mおよびnは1ないし4の整数を表す。)【化2】(式中、Y、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、mおよびnは前記と同義の基または数を表す。)
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
引用文献：
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