特許
J-GLOBAL ID:200903098175983967
過熱蒸気を利用した加熱処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
千葉 太一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-142096
公開番号(公開出願番号):特開2005-325156
出願日: 2004年05月12日
公開日(公表日): 2005年11月24日
要約:
【課題】自動的かつ確実に過熱蒸気を用いた熱処理作業を行うことが可能な過熱蒸気を用いた熱処理装置を提供する。【解決手段】熱処理装置1は、処理物の投入部2と排出部3とを備えた処理室5と、水供給機構6から導入した蒸気又は霧状の水を、電圧を印加することによって加熱し過熱蒸気にして前記処理室5内に噴出する加熱機構9と、前記処理室5内の過熱蒸気と乾留ガスを吸引し、前記処理室5内に再度供給する循環機構12と、蒸気の供給量、処理時間等を制御する制御部13を設ける。前記加熱機構9は、導入した蒸気又は霧状の水を加熱して過熱蒸気を生成するパイプヒータと、パイプヒータ42からの過熱蒸気をさらに加熱する高温部ヒータ44と、高温部ヒータ44で生成した過熱蒸気をさらにまた加熱する超高温部ヒータ46と、過熱蒸気を処理室5内に吐出するための吐出パイプ48とを順次連繋してなる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被処理物の投入部と排出部とを備えた処理室と、蒸気又は霧状の水を供給するための水供給機構と、この水供給機構から導入した蒸気又は霧状の水を、過熱蒸気にして前記処理室内に吐出する加熱機構と、還流ブロアで前記処理室内の過熱蒸気と乾留ガスを吸引還流パイプ内に吸引し、脱臭及び濾過して前記処理室内に再度供給する循環機構と、前記印加電圧、水供給機構からの蒸気又は霧状の水の供給量、処理時間等の作業条件を設定し、設定条件を維持するよう制御する制御部を備えた過熱蒸気を用いた加熱処理装置であって、加熱機構は、その導入口に水供給機構の供給パイプを連繋し、電圧を印加することによって蒸気又は霧状の水を加熱して過熱蒸気を生成するパイプヒータと、電圧を印加することによって前記パイプヒータで生成した過熱蒸気をさらに高温の蒸気にする高温部ヒータと、電圧を印加することによって前記高温部ヒータで生成した過熱蒸気をさらにまた高温の蒸気にする超高温部ヒータと、この超高温部ヒータで生成した過熱蒸気を処理室内に吐出するための吐出パイプとを順次連繋してなることを特徴とする過熱蒸気を用いた加熱処理装置。
IPC (3件):
C10B53/02
, A61L2/06
, B09B3/00
FI (5件):
C10B53/02
, A61L2/06 A
, A61L2/06 M
, B09B3/00 302Z
, B09B3/00 303M
Fターム (20件):
4C058AA01
, 4C058BB05
, 4C058DD04
, 4C058DD05
, 4D004AA03
, 4D004AA12
, 4D004BA03
, 4D004BA10
, 4D004CA15
, 4D004CA22
, 4D004CA24
, 4D004CA26
, 4D004CA42
, 4D004CA48
, 4D004CB28
, 4D004CB31
, 4D004DA02
, 4D004DA06
, 4H012JA04
, 4H012JA13
引用特許:
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