特許
J-GLOBAL ID：200903098188775875
ランガサイト型結晶の処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-119583
公開番号（公開出願番号）：特開2000-313698
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：
【要約】【課題】 光透過性の良好なランガサイト型結晶の処理方法を提供する。【解決手段】 チョクラルスキ-法により作製されたランガサイト型結晶7をアルゴン雰囲気中で、熱処理温度を800°C以上、熱処理時間を2時間以上で行う。
請求項（抜粋）：
チョクラルスキ-法により作製されたランガサイト型結晶をアルゴン雰囲気中で、熱処理温度を800°C以上、熱処理時間を2時間以上で行うことを特徴とするランガサイト型結晶の処理方法。
Fターム (4件)：
4G077AA02
, 4G077BC60
, 4G077CF10
, 4G077FE02
