特許
J-GLOBAL ID:200903098189136477
透明導電回路形成装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
近島 一夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-140476
公開番号(公開出願番号):特開平9-320363
出願日: 1996年06月03日
公開日(公表日): 1997年12月12日
要約:
【要約】【課題】 多くの工程を必要とせず、かつ比較的低温で低抵抗の透明導電回路を形成することのできる透明導電回路形成装置を提供する。【解決手段】 透明導電性材料にて形成された超微粒子を溶剤に分散させてなる透明導電インク4をインク吐出手段1にて吐出するように構成することにより、基板2上に透明導電回路をパターン形成する。また、酸化物系透明導電性材料にて形成された超微粒子を含む透明導電インクにより透明導電回路をパターン形成した場合には、基板2を加熱することにより透明導電回路を熱処理して低抵抗の透明導電回路を形成する。
請求項(抜粋):
基板上に透明導電回路を形成する透明導電回路形成装置において、透明導電性材料にて形成された超微粒子を溶剤に分散させてなる透明導電インクと、前記透明導電インクを吐出して前記基板上に前記透明導電回路をパターン形成するインク吐出手段とを備えたことを特徴とする透明導電回路形成装置。
IPC (4件):
H01B 13/00 503
, B41J 2/01
, H05K 1/09
, H05K 3/12
FI (4件):
H01B 13/00 503 D
, H05K 1/09 A
, H05K 3/12 C
, B41J 3/04 101 Z
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