特許
J-GLOBAL ID:200903098191994944
半導体素子用ダイボンド材
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
滝本 智之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-031568
公開番号(公開出願番号):特開平9-232340
出願日: 1996年02月20日
公開日(公表日): 1997年09月05日
要約:
【要約】【課題】 鉛を含有せず、放熱特性に優れ、接着力の大きい半導体素子用ダイボンド材を提供する。【解決手段】 錫(Sn)に対して、酸化反応しにくいゲルマニウム(Ge)を添加することにより、ダイボンド時の加熱処理により、ダイボンド材が酸化して特性が劣化することがなくなり、高い接着性を維持することができる。また錫-ゲルマニウム(Sn-Ge)合金半田にビスマス(Bi)、ビスマス(Bi)と亜鉛(Zn)とを添加することにより、融点温度の調整ができるとともに、合金中で脆い金属間化合物が形成されることがなく、半導体素子とリードフレームとの接着において、接着力を強化させることができる。
請求項(抜粋):
錫(Sn)とゲルマニウム(Ge)とを主成分とした合金よりなる半導体素子用ダイボンド材。
引用特許:
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