特許
J-GLOBAL ID：200903098194297721
化学メッキ槽
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 祥泰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-353035
公開番号（公開出願番号）：特開平6-179976
出願日： 1992年12月11日
公開日（公表日）： 1994年06月28日
要約：
【要約】【目的】 メッキ液の流速及び分散が均一で,被処理物にメッキ不良を生じない,化学メッキ槽を提供すること。【構成】 化学メッキ槽1は,メッキ液2及び被処理物3を入れるメッキ槽11と,その外側に設けたオーバーフロー室12と,メッキ槽11の下方において下方より順次上方へ配置したメッキ液吐出管13と,多孔整流板14及び空気吐出管15と,オーバーフロー室12内へ流出したメッキ液2をメッキ液吐出管13へ循環させる循環パイプ131と,これに介設した循環ポンプ16及びフィルター17と,空気吐出管15にエアパイプ151を接続した空気ポンプ19とよりなる。
請求項（抜粋）：
メッキ液及び被処理物を入れるメッキ槽と,該メッキ槽の外側に設けたオーバーフロー室と,上記メッキ槽の下方において下方より順次上方へ配置したメッキ液吐出管と,多孔整流板及び空気吐出管と,上記オーバーフロー室内へ流出したメッキ液を上記メッキ液吐出管へ循環させる循環パイプと,該循環パイプに介設した循環ポンプ及びフィルターと,上記空気吐出管にエアパイプを介して接続した空気ポンプとよりなることを特徴とする化学メッキ槽。
IPC (2件)：
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