特許
J-GLOBAL ID:200903098203587762

水素製造方法及び水素供給装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大菅 義之
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2002003257
公開番号(公開出願番号):WO2002-081368
出願日: 2002年04月01日
公開日(公表日): 2002年10月17日
要約:
鉄または酸化鉄に水、水蒸気、または水蒸気を含むガスを接触させて水素を製造する方法において、前記鉄または酸化鉄に鉄以外の他の金属(例えば、Ti、Zr、V、Nb、Cr、Mo、Al、Ga、Mg、Sc、Ni、Cu等)を添加することで、水素発生反応速度が速く、活性が低下することなく、酸化還元の繰り返しに対する耐久性のある水素発生媒体が提供される。
請求項(抜粋):
鉄または酸化鉄に水、水蒸気、または水蒸気を含むガスを接触させて水素を製造する方法において、前記鉄または酸化鉄に鉄以外の他の金属を添加したことを特徴とする水素製造方法。
IPC (2件):
C01B3/08 ,  C01B3/06
FI (2件):
C01B3/08 Z ,  C01B3/06

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