特許

J-GLOBAL ID：200903098210651140

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎 ,  青合 利明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-136916
公開番号（公開出願番号）：特開平11-038628
出願日： 1998年05月19日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：

【要約】【課題】 短波長光源の使用に対して感度、パタ-ンプロファイル、基板密着性などの必要特性を満足するレジスト組成物の開発である。【解決手段】 特定の構造の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂及び活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂及び活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物において、前記酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂が、下記一般式〔I〕で表される繰り返し単位と下記一般式〔II〕で表される繰り返し単位を含有する共重合体であることを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1、R2は、酸分解性保護基、あるいは酸に対する活性度の低い水素原子、アルキル基、環状アルキル基、置換環状アルキル基又は-A-R4を、Xは、酸素原子、硫黄原子、NH、NHSO2又はNHSO2NHから選ばれる2価の結合基を、R4は、COOH、COOR5、CN、水酸基、OR5、CO-NH-SO2R5又は【化2】をそれぞれ表す。また、R5はアルキル基、置換アルキル基、環状アルキル基、置換環状アルキル基を、R6〜R9は水素原子、アルキル基をそれぞれ表し、pは1又は2の整数である。また、Aは単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、ウレア基よりなる群から選択される単独あるいは2つ以上の置換基の組み合わせを表し、Zは単結合、酸素原子又は硫黄原子を示す。R3は、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、-A-R10(但し、Zが酸素原子、硫黄原子の時R3はアルキル基、置換アルキル基、-A-R10)であり、R10は環状アルキル基、置換環状アルキル基を示す。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R