特許

J-GLOBAL ID：200903098230114531

レジスト剥離剤除去用洗浄剤

発明者： 高柳 恭之 ,  中村 富雄 ,  土肥 俊一 ,  塩津 信一郎
出願人/特許権者： 日東化学工業株式会社 ,  ナガセ電子化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-355429
公開番号（公開出願番号）：特開平6-212193
出願日： 1992年12月21日
公開日（公表日）： 1994年08月02日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 微細パタ-ン形成工程において、基板上に付着しているジスト剥離剤等残査を洗浄する際、洗浄力が優れているうえ、従来の親油性溶媒と親水性溶媒の両方を用いる方法に比べて洗浄の工程数が短縮され、且つ毒性や不快臭がなく安全性にすぐれ、操作性の良いレジスト剥離剤除去用洗浄剤を提供することにある。【構成】 乳酸アルキルエステルを含有するレジスト剥離剤除去用洗浄剤。

請求項（抜粋）：

乳酸アルキルエステルを含有するレジスト剥離剤除去用洗浄剤。

IPC (3件)：

C11D 7/26 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341