特許
J-GLOBAL ID：200903098242371947
ウェット処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-019606
公開番号（公開出願番号）：特開2000-219982
出願日： 1993年04月09日
公開日（公表日）： 2000年08月08日
要約：
【要約】【課題】 工業製品や医薬製品を製造するプロセスにおいて、洗浄、後処理等のウェット処理でハロゲンやフロン、その他の難処理産業廃棄物による汚染を引き起こすことのないようにする。【解決手段】 電解質を含む水を電気分解することによって生成される、酸性イオン水またはアルカリ性イオン水を洗浄、または後処理に用いる。処理はこれらのイオン水の流水中で行うことが望ましい。
請求項（抜粋）：
電解質を含む水を電気分解することによって生成される電解質イオンを含む活性な酸性イオン水または電解質イオンを含む活性なアルカリ性イオン水を用いて被処理物の洗浄、もしくはその他の液処理を行うことを特徴とするウェット処理方法。
IPC (6件)：
C23G 1/00
, B08B 3/10
, C02F 1/46
, C23F 1/00
, H01L 21/304 647
, H01L 21/3063
C23G 1/00
, B08B 3/10 Z
, C02F 1/46 A
, C23F 1/00 A
, H01L 21/304 647 Z
, H01L 21/306 L
