特許

J-GLOBAL ID：200903098246512510

フエライト用原料酸化物の密度制御方法

発明者： 川人 健二 ,  山名 芳隆 ,  有留 清 ,  大久保 武彦
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社 ,  ケミライト工業株式会社
代理人 (1件)： 椎名 彊 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-226429
公開番号（公開出願番号）：特開平5-043248
出願日： 1991年08月13日
公開日（公表日）： 1993年02月23日
要約：

【要約】【目的】 酸化焙焼法の特徴の一つである1μm以下の微細な粒子径を保持しつゝ、高密度焼成の可能な最適成型密度を得る方法を提供する。【構成】 酸化焙焼によって得られた1μm以下の微細なフェライト用原料酸化物を、乾式粉砕と湿式粉砕の両者を組合せて処理することにより、粒子の凝集状態を変化させることで、成形体の圧縮密度を2.6g/cm3〜3.2g/cm3の範囲に連続的に制御するフェライト用原料酸化物の密度制御方法にある。【効果】 パワ-ロスの低減が大幅に可能となり、また、成型密度の制御範囲が広くなり、金型に応じたコアの造り別けが可能となり、寸法精度及び磁気特性の優れたフェライトを安定して製造できる。

請求項（抜粋）：

酸化焙焼によって得られた1μm以下の微細なフェライト用原料酸化物を、乾式粉砕と湿式粉砕の両者を組合せて処理することにより、粒子の凝集状態を変化させることで、成形体の圧縮密度を2.6g/cm3〜3.2g/cm3の範囲に連続的に制御することを特徴とするフェライト用原料酸化物の密度制御方法。