特許
J-GLOBAL ID:200903098255592810

ヒドロキシルアミンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-218401
公開番号(公開出願番号):特開平7-070781
出願日: 1993年09月02日
公開日(公表日): 1995年03月14日
要約:
【要約】【構成】 電解質を含有し表面に触媒電極を有する隔膜で隔てられた二室からなる隔膜反応器を用い、陰極室に一酸化窒素を供給し、陽極室に水素を供給し、一酸化窒素-水素電池反応によりヒドロキシルアミンを製造する方法において、陰極触媒として鉄フタロシアニンを用いることを特徴とするヒドロキシルアミンの製造方法。【効果】 一酸化窒素からヒドロキシルアミンへの反応選択率が極めて高い。
請求項(抜粋):
電解質を含有し表面に触媒電極を有する隔膜で隔てられた二室からなる隔膜反応器を用い、陰極室に一酸化窒素を供給し、陽極室に水素を供給し、一酸化窒素-水素電池反応によりヒドロキシルアミンを製造する方法において、陰極触媒として鉄フタロシアニンを用いることを特徴とするヒドロキシルアミンの製造方法。
IPC (3件):
C25B 1/00 ,  B01J 31/22 ,  C01B 21/14

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