特許

J-GLOBAL ID：200903098267560590

プロセスユニット支持装置

発明者： 伊藤 卓郎
出願人/特許権者： 株式会社テック
代理人 (1件)： 柏木 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-006212
公開番号（公開出願番号）：特開平8-194428
出願日： 1995年01月19日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】 プロセスユニット装着時に露光ユニットとの干渉を防止するとともに、本体に対するプロセスユニットの装着行程の長さを短縮して本体の小型化を図る。【構成】 本体1の上部に形成された開口部20から内部に装着されるプロセスユニット6の両外側面に第一及び第二の突部23,24を配設し、本体1の両内側面に第一及び第二の案内溝26,27を形成する。第一及び第二の突部23,24を第一又は第二の案内溝26,27に別々に挿入することにより、本体1に挿入されるプロセスユニット6の姿勢を露光ユニット8には干渉しないように規制する。さらに、第一及び第二の案内溝26,27を個々に経路を変えて形成することが可能であるため、本体1の開口部20に挿入する際に傾斜させたプロセスユニット6の姿勢を小さな半径をもって水平方向に修正するようにする。

請求項（抜粋）：

画像形成装置の本体の上部にカバーにより開閉される開口部を形成し、前記本体の天井面に一端が前記開口部の縁に近接された露光ユニットを設け、少なくとも前記露光ユニットにより静電潜像が形成される感光体を有するプロセスユニットの両外側面に第一及び第二の突部を配設し、前記開口部に対する前記プロセスユニットの挿入動作の初期の過程では前記プロセスユニットの挿入姿勢を前記開口部の上方から前記露光ユニットの下方に向けて斜めに挿入するように規制し前記挿入動作の中期以降の過程では前記プロセスユニットの挿入姿勢を略水平方向に修正するように経路が定められて前記第一及び第二の突部をそれぞれ摺動自在に案内する第一及び第二の案内溝を前記本体の両内側面に形成したことを特徴とするプロセスユニット支持装置。

IPC (4件)：

G03G 21/16 ,  G03G 21/18 ,  G03G 15/08 112 ,  G03G 15/08 507

FI (2件)：

G03G 15/00 554 ,  G03G 15/00 556