特許
J-GLOBAL ID:200903098287118690

半導体製造装置、情報処理装置およびデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊東 哲也 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-304715
公開番号(公開出願番号):特開2000-124095
出願日: 1998年10月13日
公開日(公表日): 2000年04月28日
要約:
【要約】【課題】 半導体製造工程において、製造装置を効率的に運用して工場の生産性を高めるために、製造装置の動作状態を正確に予測・監視してオンライン制御する。【解決手段】 所定の処理工程毎にオンラインにより処理要求を受けて、その処理要求に従い稼働し得る半導体製造装置において、処理要求を連続して受け付け可能な処理受付手段と、処理要求に従う処理が終了するまでの所要時間を予測算出する算出手段を有し、新規の処理要求の受け付けに先立ってその処理の所要時間を予測算出することにより、上位ホストから最適に工程をオンライン監視・運用可能とする半導体製造装置。
請求項(抜粋):
所定の処理工程毎にオンラインにより処理要求を受けて前記処理要求に従い稼働し得る半導体製造装置において、前記処理要求を連続して受け付け可能な処理受付手段と、前記処理要求に従う処理が終了するまでの所要時間を予測算出する算出手段を有し、新規の処理要求の受け付けに先立ってその処理の所要時間を予測算出する手段を有することを特徴とする半導体製造装置。
IPC (2件):
H01L 21/02 ,  H01L 21/027
FI (2件):
H01L 21/02 Z ,  H01L 21/30 502 G
Fターム (1件):
5F046AA28

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