特許
J-GLOBAL ID：200903098288851609
X線リソグラフィー装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-269912
公開番号（公開出願番号）：特開平6-120120
出願日： 1992年10月08日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：
【要約】【目的】 従来に較べて小型で低出力の励起レーザー装置を使用して実用的なX線強度を得ることができ、小型で実用性の高いX線リソグラフィー装置を提供する。【構成】 真空容器1内には、チタンターゲット2が設けられており、このチタンターゲット2の下方には、シリコン基板3が載置された載置台4が設けられている。また、チタンターゲット2とシリコン基板3との間には、Al製のフィルタ5、マスク6が設けられている。真空容器1外側には、パルス列YAGレーザー(Nd-YAGレーザー)7、レーザー光8を集光するレンズ9が設けられている。レーザー光8のパルス波形は、個々のパルスの幅が約100ps、パルスの間隔が約300psの16個のパルス列からなっている。
請求項（抜粋）：
励起レーザー装置からの励起レーザー光を集光し、真空容器内の固体ターゲットに照射してX線を発生させ、このX線によって被処理物の露光を行うX線リソグラフィー装置であって、前記励起レーザー装置は、各パルスのパルス幅が300ピコ秒以下、パルスの時間間隔が600ピコ秒以下で、パルス総数が3個以上のパルス列波形を有する励起レーザー光を射出するよう構成されていることを特徴とするX線リソグラフィー装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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