特許

J-GLOBAL ID：200903098290883429

異物検査装置の校正方法

発明者： 藤吉 克洋
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-381235
公開番号（公開出願番号）：特開2003-185588
出願日： 2001年12月14日
公開日（公表日）： 2003年07月03日
要約：

【要約】【課題】 標準粒子を用いた異物検査装置の校正において、前記異物検査装置による検査結果で得られるヒストグラムの散乱強度のピークの分離が、明確にできる異物検査装置の校正方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明では、標準粒子の塗布領域2、3および4と異物検査装置のスキャン方向とが一致するように、成膜された校正用ウエハ上1に標準粒子を塗布し、これを用いて異物検査装置の校正を行う。

請求項（抜粋）：

異物検査装置の標準粒子を用いた校正方法において、(a)成膜されたウエハを用意する工程と、(b)前記異物検査装置のスキャン方向に合わせて、前記ウエハ上に前記標準粒子を塗布する工程と、(c)前記ウエハを、前記異物検査装置の所定の位置に、設置する工程と、(d)前記異物検査装置により、前記ウエハを所定の方向でスキャンする工程とを、備えることを特徴とする異物検査装置の校正方法。

IPC (3件)：

G01N 21/93 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

G01N 21/93 ,  G01N 21/956 A ,  H01L 21/66 J

Fターム (9件)：

2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AC21 ,  2G051CD04 ,  2G051CD05 ,  2G051EC02 ,  2G051ED04 ,  4M106AA20 ,  4M106CA41