特許

J-GLOBAL ID：200903098294110408

塗布装置

発明者： 沼岡 昇
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-151962
公開番号（公開出願番号）：特開平9-001027
出願日： 1995年06月19日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：

【要約】【構成】 エクストルージョン型の塗布装置において、上流側リップ5のスリット側先端部を切り欠いてテーパー面5aを形成するとともに、テーパー面5aとスリット面5bのなす角θを0°<θ≦45°と比較的小さい角度範囲に規制する。【効果】 塗布速度を高速化した場合でも、良好な塗布面を有した塗膜が均一は膜厚で形成できる。したがって、本発明の塗布装置によって、例えば塗布型の磁気記録媒体の磁性層を形成すると、出力変動やドロップアウトが抑えられた特性の良好な磁気記録媒体が得られる。

請求項（抜粋）：

ダイ先端の上流側リップと下流側リップの先端面に沿って連続的に走行する可撓性支持体上に、この上流側リップと下流側リップの間に設けられたスリットより塗料を押し出しながら塗布するエクストルージョン型の塗布装置において、上記上流側リップのスリット側先端にテーパー面が形成され、この上流側リップのテーパ面とスリット側の面のなす角θが、0°<θ≦45°なる条件を満たすことを特徴とする塗布装置。