特許
J-GLOBAL ID:200903098300673673

高NA光学系を用いた光造形装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-125650
公開番号(公開出願番号):特開平7-299874
出願日: 1994年04月28日
公開日(公表日): 1995年11月14日
要約:
【要約】【目的】 本発明は光造形装置にZ軸方向の高精度化を実現し、かつ造形物引き上げ法に於て硬化層と光透過板との密着の問題を解消し、さらにZ軸方向の連続造形を可能とした光造形装置を提供する。【構成】 光造形装置において、その投光レンズのNAすなわち開口数が、0.167より大きなものを備え、焦点深度を浅く保ちZ軸方向の造形精度を高めた装置。投光法については、デフォーカスレーザ法と、ピンホール像投影法の2方法を提供する。また、これを造形物引き上げ法に適用したとき、硬化層を樹脂液中に形成し、硬化層と光透過板との密着を起こさない光造形装置。さらに、これに補充充填用の樹脂タンク、充填量制御バルブと液面センサーとを備え、Z軸方向の連続的ないしは間欠的引き上げと樹脂液の連続的ないし間欠的充填とを伴わせたことによりZ軸方向の完全な連続造形を可能とした光造形装置。
請求項(抜粋):
流動性のある液状樹脂に光を照射することにより硬化させて、三次元の造形物を形成する光造形法において、NAすなわち開口数の大きな投光レンズを用いることに依って、樹脂の硬化層の厚みを意図的に薄く保ち、造形物のZ軸方向の精度を飛躍的に高め、あわせて、オーバーハング形状の造形物の形状精度をも、飛躍的に高めた三次元光造形装置であって、投光レンズのNAが、0.167より大きいもの。
IPC (4件):
B29C 67/00 ,  B23K 26/00 ,  B29C 35/08 ,  B29K105:24

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