特許

J-GLOBAL ID：200903098315358766

クロスダイクロイックプリズムの製造方法、該方法により製造されたクロスダイクロイックプリズム、及び該クロスダイクロイックプリズムを有する投射型表示装置

発明者： 新保 卓也
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-278285
公開番号（公開出願番号）：特開2002-090509
出願日： 2000年09月13日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】高精度なダイクロイック膜も平面性を有するクロスダイクロイックプリズムの製造方法等を提供すること。【解決手段】 第1プリズム101Lの第1面M1と第2プリズム102Lの第2面M4とを略同一平面上に配置する平面配置工程と、第1光線L1を第1面M1に入射し、第1光線L1に平行な第2光線L2を第2面M4に入射させる入射工程と、第1面M1で反射した第1光線L1と第2面M4で反射した第2光線L2とを平面反射部材401で反射させる反射部材反射工程と、反射された第1光L1を第1面M1に再び入射・反射させる第1面再反射工程と、反射された第2光L2を第2面M4に再び入射・反射させる第2面再反射工程と、第1面M1、第2面M4を再び反射した第1光L1と第2光L2とが略平行になるように、第1と第2のプリズム101L,102Lの少なくとも一方を調整する調整工程とを有する。

請求項（抜粋）：

第1のダイクロイック膜が形成される第1の面を有する第1プリズムと、第2のダイクロイック膜が形成される第2の面を有する第2プリズムと、を有するクロスダイクロイックプリズムの製造方法において、前記第1の面と第2の面とを略同一平面上に配置する平面配置工程と、第1の光線を前記第1の面に入射し、前記第1の光線に平行な第2の光線を前記第2の面に入射させる入射工程と、前記第1の面で反射した前記第1の光線と前記第2の面で反射した前記第2の光線とを平面反射部材で反射させる反射部材反射工程と、前記平面反射部材で反射された前記第1の光を前記第1の面に再び入射させた後、反射させる第1面再反射工程と、前記平面反射部材で反射された前記第2の光を前記第2の面に再び入射させた後、反射させる第2面再反射工程と、前記第1の面を再び反射した前記第1の光と前記第2の面を再び反射した前記第2の光とが略平行になるように、前記第1のプリズムと前記第2のプリズムとの少なくとも一方を調整する調整工程とを有することを特徴とするクロスダイクロイックプリズムの製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/04 ,  G03B 21/00 ,  G03B 33/12

FI (5件)：

G02B 5/04 E ,  G02B 5/04 A ,  G02B 5/04 C ,  G03B 21/00 E ,  G03B 33/12

Fターム (4件)：

2H042CA08 ,  2H042CA14 ,  2H042CA15 ,  2H042CA17