特許
J-GLOBAL ID：200903098317742725
ウエーハキャリヤの洗浄方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-238425
公開番号（公開出願番号）：特開平8-078374
出願日： 1994年09月06日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：
【要約】【目的】 ウエーハキャリヤの凹凸部に付着したパーティクルや、PFA製ウエーハキャリヤ表面の析出物を除去し、さらに、ウエーハキャリヤへのパーティクルの静電吸着を低減させる。【構成】 液体窒素2により冷却された製氷器5の上部にスプレーノズル4を設け、このスプレーノズルに加圧したIPA液3を供給可能となし、製氷器の下部は断熱配管6を介して噴射ガン7の流入側に連通させ、さらに噴射ガンには、高純度のキャリヤガス1を供給可能に構成する。ウエーハキャリヤ9の洗浄に際しては、噴射ガンからIPA氷粒子8をウエーハキャリヤに噴射する。
請求項（抜粋）：
半導体製造プロセスに用いるウエーハを保持運搬するためのウエーハキャリヤを洗浄する方法において、前記ウエーハキャリヤに、IPA(イソプロピルアルコール)の凝固微粒子、またはIPAと超純水との混合液の凝固微粒子を噴射することを特徴とするウエーハキャリヤの洗浄方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/08
, H01L 21/68
