特許

J-GLOBAL ID：200903098323552547

露光装置

発明者： 加藤 正紀 ,  加藤 欣也
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-177898
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045819
出願日： 1994年07月29日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】 スループットの低下を招くことなく、マスクのパターンを良好に基板上に転写する。【構成】 投影光学系に対してマスクと基板とを移動させつつ露光を行う露光装置は、マスク(M) 上を照明する第1照明光学系(ILa) と、第1照明光学系とは異なる領域のマスク上を照明する第2照明光学系(ILb) と、第1照明光学系により照明されたマスクの正立像を基板(P) 上に形成する第1投影光学系(PLa) と、第2照明光学系により照明されたマスクの正立像を基板上に形成する第2投影光学系(PLb) とを有する。ここで、第1及び第2照明光学系には、照明領域を移動させる照明領域移動手段(101a,102a,101b,102b) が設けられる。

請求項（抜粋）：

照明光学系によりマスクを照明し、前記マスクの像を基板上に形成する投影光学系に対して前記マスクと前記基板とを移動させつつ露光を行う露光装置において、前記照明光学系は、前記マスク上に第1の照明領域を形成する第1照明光学系と、前記マスク上に前記第1の照明領域とは異なる第2の照明領域を形成する第2照明光学系とを有し、前記投影光学系は、前記第1の照明領域により照明された前記マスクの正立像を前記基板上に形成する第1投影光学系と、前記第2の照明領域により照明された前記マスクの正立像を前記基板上に形成する第2投影光学系とを有し、前記第1及び第2照明光学系は、前記マスクに対して前記第1及び第2の照明領域を移動させる照明領域移動手段を有することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 7/20 511