特許

J-GLOBAL ID：200903098325120750

有機EL素子およびその製造方法

発明者： 日下 輝雄
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 弘男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-292083
公開番号（公開出願番号）：特開平11-126691
出願日： 1997年10月24日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：

【要約】【課題】 有機EL素子材料の耐熱性の乏しさのために、透明電極を形成した後でしか有機薄膜を形成することができないというプロセス上の制約を克服し、自由自在に有機薄膜を形成できる製造方法を提供することである。【解決手段】 有機薄膜の上に透明電極(ITO薄膜)を成膜するに際して、冷却したメタルマスクをスパッタ粒子流の中に置き、不要な粒子が有機薄膜の温度を上昇させることがないようにする。マスクの穴を通過し基板表面に到達するスパッタ粒子のエネルギーを最小レベルに抑え、一部をイオン化し電界加速でエネルギー補充することで、安定な成膜を実現している。

請求項（抜粋）：

有機薄膜の両面に透明電極と金属電極とを形成し、該透明電極および金属電極の両電極から、それぞれ正負のキャリアを注入して発光させる有機EL素子において、基板に回路基板が使用され、該基板の主表面側の所定箇所に形成された有機EL素子用の金属電極と、該金属電極を被覆する有機薄膜と、さらに該有機薄膜の上に形成された透明電極とから構成されることを特徴とする有機EL素子。

IPC (4件)：

H05B 33/26 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/02 ,  H05B 33/10

FI (4件)：

H05B 33/26 Z ,  G09F 9/30 365 B ,  H05B 33/02 ,  H05B 33/10