特許

J-GLOBAL ID：200903098334629509

ビス(4-t-ブトキシカルボニルメチロキシ-2 ,5-ジメチルフェニル)メチル-4-t-ブトキシカルボニルメチロキシベンゼン及びその誘導体

発明者： 渡辺 淳 ,  石原 俊信 ,  八木橋 不二夫
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 滝田 清暉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-020955
公開番号（公開出願番号）：特開平8-193054
出願日： 1995年01月13日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】 3成分系ポジ型レジスト用溶解阻害剤として有効な新規化合物を提供すること。【構成】 下記化1で表される、ビス(4-t-ブトキシカルボニルメチロキシ-2,5-ジメチルフェニル)メチル-4-t-ブトキシカルボニルメチロキシベンゼン及びその誘導体;【化1】但し、化1中のRはアルキル基、mは0〜4の整数を表す。

請求項（抜粋）：

下記化1で表されるビス(4-t-ブトキシカルボニルメチロキシ-2,5-ジメチルフェニル)メチル-4-t-ブトキシカルボニルメチロキシベンゼン及びその誘導体;【化1】但し、化1中のRはアルキル基、mは0〜4の整数を表す。

IPC (3件)：

C07C 69/712 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027