特許
J-GLOBAL ID：200903098341689860
ホール素子及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-302835
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148653
出願日： 1995年11月21日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：
【要約】【課題】 実用上高い特性を持ち信頼性の高いホール素子を、歩留りよく提供する。【解決手段】 フェライトと、該フェライト上に形成された線膨張係数4×10-6〜6×10-6/°Cを有する厚み3,000〜30,000Åのガラス層、更にその上に形成された0.5〜2μmの厚みの化学量論的組成のインジウムアンチモン薄膜の積層体を感磁部とするホール素子及びその製造方法。
請求項（抜粋）：
フェライトと、該フェライト上に形成された線膨張係数4×10-6〜6×10-6/°Cを有する厚み3,000〜30,000Åのガラス層、更にその上に形成された0.5〜2μmの厚みの化学量論的組成のインジウムアンチモン薄膜の積層体を感磁部とすることを特徴とするホール素子。
IPC (4件)：
H01L 43/14
, C23C 14/06
, H01L 43/04
, H01L 43/06
H01L 43/14
, C23C 14/06 P
, H01L 43/04
, H01L 43/06 Z
