特許
J-GLOBAL ID：200903098352785500
液晶パネルの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 晴敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-028602
公開番号（公開出願番号）：特開平6-222370
出願日： 1993年01月25日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：
【要約】【目的】 液晶パネルのスペーサを透明電極間隙に沿って固定配置しギャップ制御の安定化を図るとともに表示コントラストを改善する。【構成】 液晶パネルの製造方法はパタニング工程、焼成工程、成膜工程、フォトリソ工程、剥離工程、組立工程等からなる。パタニング工程ではフォトレジストを用いて基板表面に透明電極のパタンを形成する。焼成工程ではパタン上に残されたフォトレジストを焼成してリフトオフマスクに転換する。成膜工程では基板表面に所定の厚みで感光性膜を塗布しプリベークして成膜する。フォトリソ工程ではリフトオフマスク(及び追加の交差パタンマスク)を介して感光性膜を基板裏面から露光し且つ現像して透明電極のパタン間隙に整合するスペーサを形成する。剥離工程では使用済みのリフトオフマスクを剥離する。最後に組立工程ではスペーサを介して前記基板に対向基板を接着した後両基板間に液晶を封入する。
請求項（抜粋）：
フォトレジストを用いて基板表面に透明電極のパタンを形成するパタニング工程と、該パタン上に残されたフォトレジストを焼成してリフトオフマスクに転換する焼成工程と、基板表面に所定の厚みで感光性膜を形成する成膜工程と、リフトオフマスクを介して感光性膜を基板裏面から露光し且つ現像して透明電極のパタン間隙に整合するスペーサを形成するフォトリソ工程と、リフトオフマスクを剥離する剥離工程と、該スペーサを介して前記基板に対向基板を接着した後、両基板間に液晶を封入する組立工程とを含む液晶パネルの製造方法。
IPC (3件)：
G02F 1/1339 500
, G02F 1/13 101
, G03F 7/26 513
