特許

J-GLOBAL ID：200903098357516299

光源装置及びその調光方法ならびに半導体製造装置および半導体製造方法

発明者： 鈴木 美和子 ,  西谷 英輔 ,  小林 秀
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-162366
公開番号（公開出願番号）：特開平9-017217
出願日： 1995年06月28日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【目的】高圧放電ランプの点灯初期時、調光時の光量応答性の向上を図り、基板を所望温度に速く、効率良く加熱する光源装置及び光源の調光方法を提供する。【構成】管内に金属及び金属化合物を有する高圧放電ランプ104と、冷風または熱風を噴射するノズル108と、ランプ放電用の供給電力可変電源107を備え、供給電力を増減し、管壁をノズル108で熱風または冷風で加熱冷却することにより、ランプの放電状態を外側より強制的に制御し、点灯初期時及び調光時の光量応答性を向上させ、半導体基板102の温度制御に必要な迅速な光量応答性、制御性の向上、高効率加熱をするものである。

請求項（抜粋）：

管内に金属及び金属化合物を有する高圧放電ランプと、該ランプへの供給電力を可変にする可変電源と、該ランプの管壁温度を調整する温度調整手段とを具備したことを特徴とする光源装置。

IPC (6件)：

F21S 9/00 ,  G05D 23/00 ,  G05D 25/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/31

FI (6件)：

F21S 9/00 ,  G05D 23/00 B ,  G05D 25/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 L ,  H01L 21/31 B