特許

J-GLOBAL ID：200903098373123167

超微粒子膜の生成方法および生成装置

発明者： 中原 伸之
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-217365
公開番号（公開出願番号）：特開2002-030421
出願日： 2000年07月18日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：

【要約】【課題】 蒸発源およびこの上方に搬送管の開口部を設けた超微粒子生成室と、該搬送管の他の開口部に結合されたノズルおよびこれに対向して配設される基板を固定するステージを設けた膜形成室とから成り、該蒸発源より蒸発する超微粒子を該超微粒子生成室内に導入されるガスと共に該搬送管中を搬送し、該ノズルから噴射する該超微粒子を該基板上に堆積させることにより膜形成するガスデポジション装置において、該超微粒子膜を任意の膜厚に形成する。【解決手段】 基板4上に超微粒子膜3を形成すると同時に、形成された超微粒子膜3の膜厚を非接触の膜厚測定器であるレーザ膜厚測定器5により測定し、膜厚測定結果をもとにステージとノズル1の相対速度および蒸発源温度等を制御する。

請求項（抜粋）：

蒸発源および搬送管の開口部を設けた超微粒子生成室と、該搬送管の他開口部に結合され、かつ基体に対向する噴出し口が設けられた膜形成室とから成り、該蒸発源より蒸発する超微粒子が該超微粒子生成室内に導入されるガスと共に該搬送管中を搬送され、該噴出し口から噴射される該超微粒子を該基体上に堆積させることにより膜形成する超微粒子膜の生成方法において、前記基体上に堆積生成する前記超微粒子膜の膜厚を測定することにより該膜厚を制御する工程を有することを特徴とする超微粒子膜の生成方法。

IPC (2件)：

C23C 14/24 ,  B01J 19/00

FI (2件)：

C23C 14/24 U ,  B01J 19/00 L

Fターム (29件)：

4G075AA24 ,  4G075AA62 ,  4G075BA02 ,  4G075BB02 ,  4G075BC01 ,  4G075BD02 ,  4G075BD14 ,  4G075BD26 ,  4G075CA02 ,  4G075CA05 ,  4G075CA63 ,  4G075CA65 ,  4G075DA02 ,  4G075DA04 ,  4G075EA05 ,  4G075EB01 ,  4G075EC01 ,  4G075EC21 ,  4G075EC26 ,  4G075FC07 ,  4K029AA09 ,  4K029CA01 ,  4K029DA00 ,  4K029DA05 ,  4K029DB03 ,  4K029DB11 ,  4K029DB18 ,  4K029EA01 ,  4K029EA03