特許

J-GLOBAL ID：200903098376151080

基板端縁洗浄装置

発明者： 松村 吉雄 ,  小林 律 ,  佐々木 忠司
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-357131
公開番号（公開出願番号）：特開平5-175117
出願日： 1991年12月24日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：

【要約】【目的】 角型基板の端縁の薄膜を良好に溶解除去できるようにする。【構成】 回転塗布によって表面に薄膜が形成された角型基板1を基板保持手段2で載置保持し、その角型基板1の端縁の裏面側に、溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する第1の溶剤ノズル26aとガスを吐出して溶解物を角型基板の端縁よりも外方に吹き飛ばす第1のガスノズル27aを設け、一方、表面側に、溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する第2の溶剤ノズル26bとガスを吐出して溶解物を角型基板の端縁よりも外方に吹き飛ばす第2のガスノズル27bを設け、それらの溶剤ノズル26a,26bおよびガスノズル27a,27bを、移動手段19により角型基板1の端縁に沿わせて直線移動し、角型基板1の端縁の薄膜を溶解除去する。

請求項（抜粋）：

回転塗布によって表面に薄膜が形成された角型基板を載置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記角型基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、ガスを吐出して溶解物を前記角型基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルと、前記溶剤ノズルおよびガスノズルを、前記角型基板の端縁に沿わせて相対的に直線移動する移動手段と、を備えた基板端縁洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-157763
  
• 特開昭64-061917
  
• 特開平1-253923