特許
J-GLOBAL ID：200903098379676648
アライメント測定用パターン
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
清水 守 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-015893
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217845
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【目的】 ショット内の1箇所のみでショットの位置を計測する場合に問題となるウエハやマスクの伸び縮みによるアライメント精度の低下を防止し、大きいショットに対しても高精度のアライメントを達成する。【構成】 ステップ・アンド・リピード動作により、露光を行なう露光方法によるアライメント測定用パターンにおいて、同一ショット内に複数個の同一のアライメント測定用パターン領域13A,13Bを配置する。
請求項（抜粋）：
ステップ・アンド・リピード動作により、露光を行なう露光方法によるアライメント測定用パターンにおいて、同一ショット内にアライメント測定用パターン領域を複数個配置することを特徴とするアライメント測定用パターン。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 311 M
, H01L 21/30 301 M
