特許

J-GLOBAL ID：200903098394254920

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 青合 利明 ,  佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-082404
公開番号（公開出願番号）：特開2000-275838
出願日： 1999年03月25日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：

【要約】【課題】 深紫外線、特にArFエキシマレーザー光に対して、良好な感度、解像度を有し、且つ基板との密着性が良好で、従来のレジストに使用していた現像液(例えば2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液)に対しても良好な現像性を示すポジ型フォトレジスト組成物を提供することである。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、多環型の脂環式基と酸分解性基とを有し、酸の作用により分解してアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、及びホスホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基又はこれらのエステル基を有する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)多環型の脂環式基と酸分解性基とを有し、酸の作用により分解してアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、及び(C)ホスホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基又はこれらのエステル基を有する化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (15件)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17