特許
J-GLOBAL ID:200903098399855018

ジスアゾ顔料

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-067596
公開番号(公開出願番号):特開平9-255886
出願日: 1996年03月25日
公開日(公表日): 1997年09月30日
要約:
【要約】【課題】従来のジスアゾ顔料と同等以上の顔料適性を有しつつ、特別な製造装置が不要で、しかも低価格である顔料を提供すること。【解決手段】一般式(1)で示される新規なジスアゾ顔料。一般式(1)【化1】(式中、Aはエノール化し得るケトメチレン化合物の残基を表す。)
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で表されるジスアゾ顔料。一般式(1)【化1】(式中、Aはエノール化し得るケトメチレン化合物の残基を表す。)
IPC (3件):
C09B 35/039 ,  C09B 35/035 ,  C09B 67/20
FI (3件):
C09B 35/039 ,  C09B 35/035 ,  C09B 67/20 K

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