特許
J-GLOBAL ID：200903098428658723
パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-226264
公開番号（公開出願番号）：特開平5-067554
出願日： 1991年09月06日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：
【要約】【目的】 パターン形成方法に関し,基板上に所望のパターンを精度よく形成する方法の提供を目的とする。【構成】 基板1上に所望のパターンを形成する際に,そのパターンの分割パターンのマスク5を作成し,分割パターンのマスク5を用いて基板1上に複数の露光を繰り返し,分割パターンを基板1上に継ぎ合わすことにより所望のパターンを形成する方法において,基板1の分割パターン露光領域2外に光が入ることを防止する基板ブラインド3を基板1の前に設けて分割パターンを露光するパターン形成方法により構成する。また,予めテストパターンのマスクを用いて基板1の分割パターン露光領域2に形成さたテストパターンの幅の変化を測定し,その結果に基づいてパターン幅を調整した分割パターンのマスク5を作成し,基板1上に所望のパターンを形成するパターン形成方法により構成する。
請求項（抜粋）：
基板(1) 上に所望のパターンを形成する際に,該パターンの分割パターンのマスク(5) を作成し,該分割パターンのマスク(5) を用いて該基板(1) 上に複数の露光を繰り返し,該分割パターンを該基板(1) 上に継ぎ合わすことにより所望のパターンを形成する方法において,該基板(1) の該分割パターン露光領域(2) 外に光が入ることを防止する基板ブラインド(3) を該基板(1) の前に設けて該分割パターンを露光することを特徴とするパターン形成方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
