特許

J-GLOBAL ID：200903098431899219

高周波加熱装置

発明者： 信江 等隆 ,  福本 明美 ,  内山 智美
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-139981
公開番号（公開出願番号）：特開2001-319768
出願日： 2000年05月12日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、被加熱物の加熱の均一化あるいはその特定領域の選択加熱を確実に行うための加熱室壁面に設けた開孔部のインピーダンス可変の制御手段を備えた装置を提供するものである。【解決手段】 加熱室10を形成する奥側面13に設けた開孔部21、22、23と、それぞれの開孔部に接続した溝部と溝部内に設け回転駆動する誘電体からなる回転体とで構成したインピーダンス可変手段24,25、26とを備え、制御手段によりそれぞれの回転体の支持角度の組合せを確実に実行して加熱室内のマイクロ波分布の分散化と特定領域への集中を図ることで被加熱物の加熱の均一化あるいはその特定領域の選択加熱を確実に行うことができる。

請求項（抜粋）：

被加熱物を収納する加熱室の壁面に設けた開孔部と、前記開孔部のインピーダンスを可変する手段とを備え、前記被加熱物全域に万遍なくマイクロ波を入射させるために加熱開始直後は前記インピーダンス可変手段を連続的に動作制御した高周波加熱装置。

IPC (4件)：

H05B 6/74 ,  F24C 7/02 511 ,  H05B 6/68 310 ,  H05B 6/70

FI (4件)：

H05B 6/74 E ,  F24C 7/02 511 E ,  H05B 6/68 310 Z ,  H05B 6/70 E

Fターム (43件)：

3K086AA01 ,  3K086BA02 ,  3K086BA08 ,  3K086BB02 ,  3K086CA04 ,  3K086CB03 ,  3K086CB05 ,  3K086CB06 ,  3K086CB12 ,  3K086CC01 ,  3K086CD19 ,  3K086CD26 ,  3K086DA02 ,  3K090AA01 ,  3K090AB02 ,  3K090AB03 ,  3K090BA01 ,  3K090BB01 ,  3K090BB15 ,  3K090BB17 ,  3K090BB20 ,  3K090CA02 ,  3K090CA16 ,  3K090CA21 ,  3K090DA15 ,  3K090DA17 ,  3K090DA18 ,  3K090EB14 ,  3K090EB29 ,  3K090EB32 ,  3L086AA02 ,  3L086BB02 ,  3L086BB08 ,  3L086BD01 ,  3L086CA11 ,  3L086CA12 ,  3L086CB08 ,  3L086CB09 ,  3L086CB16 ,  3L086CC13 ,  3L086CC25 ,  3L086DA12 ,  3L086DA29