特許
J-GLOBAL ID：200903098434899791
離軸整列ユニットを持つリトグラフ投射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-538308
公開番号（公開出願番号）：特表2000-511004
出願日： 1998年03月02日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：
【要約】基板整列マーク(P1)を基準(RGP)に関し整列させるための離軸整列ユニットを持つリトグラフ投射装置。このユニットは偏向素子(80-86)の構造体(WEP)を有し、該偏向素子は回折基板マークから来る異なる回折次数を持つ副ビームに異なる方向を与えるので、これらの副ビームは分離された基準回折格子に入射し、分離された検出器(DET)により検出されることができる。このユニットは非対称整列マークを非常に正確に整列させる可能性も提供する。
請求項（抜粋）：
投射ビームを供給する光源と;マスク保持器と;基板保持器と;該マスク保 持器と該基板保持器との間に配置される投射システムと;を有して成り、また 上記基板保持器内に設けられる基板を上記マスク保持器内に設けられるマスク に関して終極的に整列させるための整列システムをも更に有して成るリトグラ フ投射装置であって、上記整列システムは上記基板上に設けられる整列マーク を或る基準に関して整列させるための離軸整列ユニットを含むところのリトグ ラフ投射装置において、 上記整列マークは回折マークであり、また、上記整列ユニットは、0より高 い種々の異なる回折次数で上記回折マークにより回折されるところの、少なく とも3以上の或る数の副ビームを個別に検出するのに適合しており、各副ビー ムは上記基準に関する基板マークの位置についての表示を含むことを特徴とす るリトグラフ投射装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 525 R
, G03F 9/00 H
