特許

J-GLOBAL ID：200903098440530520

静電塗布方法及び静電塗布装置

発明者： 南 良 博 ,  滝 川 修 ,  古 山 英 人 ,  小 泉 隆
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-183085
公開番号（公開出願番号）：特開2000-015147
出願日： 1998年06月29日
公開日（公表日）： 2000年01月18日
要約：

【要約】【課題】 静電塗布方法において、連続作業時に問題となるレジストのウェーハ上への落下を防止し、製造歩留りの向上をはかり得るレジストの形成方法とその装置を提供することを目的とする。【解決手段】 静電塗布時のウェーハ位置を塗布ノズル直下以外の位置に設置することにより、レジストの垂れを防止することが可能となり、製造歩留りを改善することができる。さらに、溶液タンク中のレジスト成分を監視し、変化が生じた場合に溶媒タンクから自動的に溶媒を注入する機構を付加することにより、塗布条件の変化を防止し、製造歩留りを改善することができる。

請求項（抜粋）：

塗布する液体の微粒子を形成し、前記微粒子を帯電させるとともに噴出口から空中に噴出し、被塗布体に向けて空中移動させ、前記被塗布体表面に前記微粒子を付着させるようにした静電塗布方法であって、前記被塗布体を、前記噴出口の鉛直直下から外れた位置に配置して前記微粒子を付着させることを特徴とする静電塗布方法。

IPC (6件)：

B05B 5/08 ,  B05B 5/10 ,  B05B 5/16 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

B05B 5/08 B ,  B05B 5/10 ,  B05B 5/16 ,  B05D 1/40 Z ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/30 564 Z

Fターム (25件)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025EA04 ,  4D075AA09 ,  4D075AA25 ,  4D075AA85 ,  4D075AA86 ,  4D075AA87 ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA05 ,  4F034AA10 ,  4F034BA14 ,  4F034BB04 ,  4F034BB12 ,  4F034BB15 ,  4F034BB26 ,  4F034CA11 ,  4F034DA05 ,  4F034DA17 ,  4F034DA22 ,  4F034DA26 ,  5F046JA20