特許
J-GLOBAL ID:200903098458869281

二元細孔シリカ及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-027064
公開番号(公開出願番号):特開2006-213558
出願日: 2005年02月02日
公開日(公表日): 2006年08月17日
要約:
【課題】 ナノ細孔径が大きく、しかも、破壊荷重が高く、充填時、或いは使用時における微粉化が低減された二元細孔シリカを提供すること。また、本発明の他の目的は、上記二元細孔シリカを再現性良く且つ効率的に製造する方法を提供すること。【解決手段】 平均直径が5〜50nmの範囲内にあるナノ細孔と、平均直径が0.1〜20μmの範囲内であるマクロ細孔が形成され、且つ、前記ナノ細孔の容積が0.4〜1.5cm3/gの範囲内にあり、マクロ細孔の容積が0.6〜2.0cm3/gの範囲内にあり、更に、圧縮強度が10kg/cm2以上20kg/cm2以下の範囲内にあることを特徴とする二元細孔シリカとする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
平均直径が5〜50nmの範囲内にあるナノ細孔と、平均直径が0.1〜20μmの範囲内であるマクロ細孔が形成され、且つ、前記ナノ細孔の容積が0.4〜1.5cm3/gの範囲内にあり、前記マクロ細孔の容積が0.6〜2.0cm3/gの範囲内にあり、更に、圧縮強度が10kg/cm2以上20kg/cm2以下の範囲内にあることを特徴とする二元細孔シリカ。
IPC (6件):
C01B 33/157 ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/28 ,  B01J 21/08 ,  B01J 32/00 ,  B01J 35/10
FI (6件):
C01B33/157 ,  B01J20/10 D ,  B01J20/28 Z ,  B01J21/08 M ,  B01J32/00 ,  B01J35/10 301H
Fターム (83件):
4G066AA22B ,  4G066BA20 ,  4G066BA23 ,  4G066BA25 ,  4G066BA28 ,  4G066BA35 ,  4G066DA07 ,  4G066EA01 ,  4G066FA03 ,  4G066FA21 ,  4G066FA34 ,  4G069AA01 ,  4G069AA08 ,  4G069BA03A ,  4G069BA03B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BD05A ,  4G069BD05B ,  4G069EA04Y ,  4G069EC07X ,  4G069EC07Y ,  4G069EC08X ,  4G069EC08Y ,  4G069EC14X ,  4G069EC14Y ,  4G069EC15X ,  4G069EC17X ,  4G069EC17Y ,  4G069EC20 ,  4G069EC27 ,  4G069EC28 ,  4G069FA01 ,  4G069FB08 ,  4G069FB33 ,  4G069FB57 ,  4G069FB78 ,  4G069FC07 ,  4G072AA25 ,  4G072BB15 ,  4G072CC10 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH21 ,  4G072JJ47 ,  4G072KK01 ,  4G072LL06 ,  4G072MM31 ,  4G072MM37 ,  4G072PP03 ,  4G072RR19 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072TT30 ,  4G072UU11 ,  4G072UU15 ,  4G169AA01 ,  4G169AA08 ,  4G169BA03A ,  4G169BA03B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BD05A ,  4G169BD05B ,  4G169EA04Y ,  4G169EC07X ,  4G169EC07Y ,  4G169EC08X ,  4G169EC08Y ,  4G169EC14X ,  4G169EC14Y ,  4G169EC15X ,  4G169EC17X ,  4G169EC17Y ,  4G169EC20 ,  4G169EC27 ,  4G169EC28 ,  4G169FA01 ,  4G169FB08 ,  4G169FB33 ,  4G169FB57 ,  4G169FB78 ,  4G169FC07
引用特許:
出願人引用 (6件)
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引用文献:
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