特許

J-GLOBAL ID：200903098463120264

霧化装置

発明者： 井上 久道 ,  唐澤 英年 ,  村田 英太郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  株式会社共立合金製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-166272
公開番号（公開出願番号）：特開2002-355583
出願日： 2001年06月01日
公開日（公表日）： 2002年12月10日
要約：

【要約】【課題】大容量で微細水滴の噴霧が、少ない空気量で得られ、さらに噴霧エリアの水滴密度を均一にするクロス噴霧大容量霧化スプレーノズルを提供するにある。【解決手段】供給する気体および液体が混合される混合部と、該混合部の下流側に設けられるノズル先端オリフィスと、該ノズル先端オリフィスの前端から大気に向けてすり鉢状に広がるように開口する噴霧口と、該噴霧口の中央底部に配置され、かつ噴霧口の壁面との間に狭い噴射流路を形成する噴射駒と、前記噴射流路に向けて成形用気体を噴射する噴射スリットを有することを特徴とするクロス噴霧大容量霧化スプレーノズル。

請求項（抜粋）：

供給する気体および液体が混合される混合部と、該混合部の下流側に設けられるノズル先端オリフィスと、該ノズル先端オリフィスの前端から大気に向けてすり鉢状に広がるように開口する噴霧口と、該噴霧口の中央底部に配置され、かつ噴霧口の壁面との間に噴射流路を形成する噴射駒と、前記噴射流路に向けて成形用並びに液体微細化用気体を噴射する噴射スリットを有することを特徴とする霧化装置。

IPC (3件)：

B05B 7/04 ,  B05B 1/02 ,  F02C 3/30

FI (3件)：

B05B 7/04 ,  B05B 1/02 ,  F02C 3/30 B

Fターム (29件)：

4F033AA01 ,  4F033AA07 ,  4F033AA13 ,  4F033BA03 ,  4F033CA01 ,  4F033CA11 ,  4F033DA03 ,  4F033DA04 ,  4F033EA06 ,  4F033GA01 ,  4F033GA11 ,  4F033HA03 ,  4F033JA02 ,  4F033LA04 ,  4F033NA01 ,  4F033QA01 ,  4F033QA05 ,  4F033QA07 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB03X ,  4F033QB14X ,  4F033QB17 ,  4F033QB18 ,  4F033QD03 ,  4F033QD14 ,  4F033QD23 ,  4F033QE05 ,  4F033QE09 ,  4F033QE21

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭60-235908
  
• 特開昭57-027158
  
• ガスタービン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-171472   出願人：株式会社日立製作所