特許

J-GLOBAL ID：200903098466221479

多孔性プラズマ放電用電極、大気圧プラズマ放電処理装置、薄膜形成方法及び高機能性フィルム

発明者： 福田 和浩 ,  近藤 慶和 ,  戸田 義朗 ,  大石 清 ,  水野 航 ,  西脇 彰
出願人/特許権者： コニカミノルタホールディングス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-142840
公開番号（公開出願番号）：特開2003-334436
出願日： 2002年05月17日
公開日（公表日）： 2003年11月25日
要約：

【要約】【課題】 対向電極への薄膜の付着(汚れ)を起こさせることなく、基材への薄膜形成が長時間にわたって安定して行うことが出来るプラズマ放電用電極を提供し、このプラズマ放電用電極を使用した高生産性能を有する大気圧プラズマ放電処理装置を提供し、更にこの装置を使用して生産性や品質に優れた薄膜を形成する方法及びこの方法により作製される高品質の高機能性フィルムを提供する。【解決手段】 対向電極の少なくとも一方の電極に、少なくとも一面にガスを通すことの出来る多孔性プラズマ放電用電極を用いることにより達成される。

請求項（抜粋）：

少なくとも一面にガスを通すことが出来る多孔性部分を有することを特徴とする多孔性プラズマ放電用電極。

IPC (5件)：

B01J 19/08 ,  C23C 16/509 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/24

FI (5件)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/509 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/24

Fターム (48件)：

4G075AA24 ,  4G075BC01 ,  4G075BD01 ,  4G075BD14 ,  4G075BD26 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075DA12 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EC21 ,  4G075EC30 ,  4G075ED04 ,  4G075ED09 ,  4G075EE31 ,  4G075FA02 ,  4G075FA11 ,  4G075FA14 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4K030AA04 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030AA17 ,  4K030JA09 ,  4K030JA10 ,  4K030JA16 ,  4K030JA18 ,  4K030KA15 ,  4K030KA41 ,  4K030KA46 ,  4K030KA47 ,  5F045AB02 ,  5F045AB04 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AC07 ,  5F045AE29 ,  5F045BB08 ,  5F045BB14 ,  5F045CA13 ,  5F045CA15 ,  5F045DP22 ,  5F045EF05 ,  5F045EH05 ,  5F045EH12