特許
J-GLOBAL ID：200903098466516894
インプリント・リソグラフィ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-377640
公開番号（公開出願番号）：特開2006-191089
出願日： 2005年12月28日
公開日（公表日）： 2006年07月20日
要約：
【課題】インプリント・リソグラフィ用の製造テンプレートを製造する方法を提供する。【解決手段】本方法は、実施例で、製造テンプレート基板上のインプリント可能媒体の第1の目標領域を親テンプレートと接触させて、媒体に第1のインプリントを形成する工程と、このインプリントは製造テンプレートパターンの部分を画定するものであり、親テンプレートをインプリントされた媒体から分離する工程と、媒体の第2の目標領域を親テンプレートと接触させて、媒体に第2のインプリントを形成する工程と、この第2のインプリントは製造テンプレートパターンの他の部分を画定するものであり、親テンプレートを前記インプリントされた媒体から分離する工程と、を有する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
インプリント・リソグラフィ用の製造テンプレートを製造する方法であって、
製造テンプレート基板上のインプリント可能媒体の第1の目標領域を親テンプレートと接触させて、前記媒体に第1のインプリントを形成する工程であって、前記インプリントが製造テンプレートパターンの一部分を画定するものである工程と、
前記親テンプレートを前記インプリントされた媒体から分離する工程と、
前記媒体の第2の目標領域を前記親テンプレートと接触させて、前記媒体に第2のインプリントを形成する工程であって、前記第2のインプリントが前記製造テンプレートパターンの他の部分を画定するものである工程と、
前記親テンプレートを前記インプリントされた媒体から分離する工程と、を有する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B81C5/00
