基板のテクスチャー処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宇高克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-043181
公開番号（公開出願番号）：特開平8-241521
出願日： 1995年03月02日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：

【要約】【目的】表面プロフィールが良く、CSS耐久性に優れ、エラーが起き難い記録媒体を提供することを目的とする。【構成】下記の(1)式および/または(2)式を満足する条件下でテクスチャー処理が行われるテクスチャー処理方法。(1)式100Å/分≦表面突起形成速度(ΔRp/Δt)≦6000Å/分Rp;中心線高さt ;時間(2)式30Å/分≦表面粗さ形成速度(ΔRa/Δt)≦1000Å/分Ra;中心線平均粗さt ;時間

請求項（抜粋）：

下記の(1)式および/または(2)式を満足する条件下でテクスチャー処理が行われることを特徴とする基板のテクスチャー処理方法。(1)式100Å/分≦表面突起形成速度(ΔRp/Δt)≦6000Å/分Rp;中心線高さt ;時間(2)式30Å/分≦表面粗さ形成速度(ΔRa/Δt)≦1000Å/分Ra;中心線平均粗さt ;時間

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