特許

J-GLOBAL ID：200903098498589737

プラズマ処理装置

発明者： 田中潤一 ,  臼井建人 ,  池川正人 ,  渡辺成一 ,  渡辺克哉
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 本多 小平 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-091832
公開番号（公開出願番号）：特開平7-296990
出願日： 1994年04月28日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：

【要約】【目的】 本発明は放電管に入射するマイクロ波を制御する手段を備えたプラズマ処理装置を提供することにある。【構成】 導波管2と放電管10の間にバッファ室12を設け、その中央部に二次導波管13を設置し、マイクロ波の通過経路として二次導波管内部と二次導波管外部の複数通りの経路を設ける。二次導波管内部に例えば導体の仕切りを設け、二次導波管が回転できるように回転台14、ベアリング16、サーボモータ15等の機構を設け、回転させることにより二次導波管内部を通過するマイクロ波の量を調節し、プラズマの生成分布を制御する。【効果】 本発明により、放電室内部のプラズマの生成分布を制御できる。

請求項（抜粋）：

マイクロ波発生源と、プラズマを保持する放電管と、前記マイクロ波発生源で発生したマイクロ波を前記放電管に伝える導波管と、前記放電管を囲み前記導波管と接続されマイクロ波を内部に封じ込める外部容器と、前記放電管内部に設置した試料台とを備え、該試料台上の試料を処理するプラズマ処理装置において、前記外部容器中に設置されマイクロ波の伝播状態を変える伝播状態可変手段と、該伝播状態可変手段を回転する機構を有し前記放電管内部のプラズマの分布状態を可変にする分布状態可変手段とを具備することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065