液処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須山佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-141464
公開番号（公開出願番号）：特開2002-332598
出願日： 2001年05月11日
公開日（公表日）： 2002年11月22日
要約：

【要約】【課題】基板との接触抵抗の均一性を確保し易い液処理装置を提供する【解決手段】液処理装置の第1の電極を、開口部が形成された電極基体とその開口部に取り付けられた複数の補助電極から構成する。電極基体の開口部に複数の補助電極を適宜に取り付けることで、基板のパターン等に対応して基板と接触する箇所を容易に変更できる。その結果、接触抵抗の均一性の確保が容易となる。

請求項（抜粋）：

処理液を収容する処理液槽と、開口部が形成された電極基体と該開口部に取り付けられた複数の補助電極から構成され、かつ基板に接触可能な第1の電極と、前記処理液槽に配設され、前記第1の電極との間に電圧が印加される第2の電極と、を具備することを特徴とする液処理装置。

IPC (2件)：

C25D 17/10 , H01L 21/304 643

FI (2件)：

C25D 17/10 B , H01L 21/304 643 A

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