特許
J-GLOBAL ID：200903098515818591
プラズマエッチング装置の制御方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-249604
公開番号（公開出願番号）：特開平6-101069
出願日： 1992年09月18日
公開日（公表日）： 1994年04月12日
要約：
【要約】【目的】プラズマエッチング装置の制御方法【構成】プラズマエッチング装置の制御方法において、マスフローコントローラへの流量設定信号にマイナス電圧(-60mV)を付加することで、流量センサゼロ電圧を正確に計測することが可能となる。【効果】マスフローコントローラの流量センサのゼロドリフトを常時監視することにより、安定したガス供給が行える。
請求項（抜粋）：
内部にプラズマが生成される真空容器と、該真空容器に接続され真空容器内のガスを排気する排気手段と、真空容器に接続され真空容器内にプラズマ発生用のガスを供給するガス供給手段とから成るプラズマエッチング装置の制御方法において、前記ガス供給手段への流量設定信号にマイナス電圧(-60mV)を付加し、流量センサーゼロ電圧を計測することを特徴とするプラズマエッチング装置の制御方法。
IPC (3件)：
C23F 4/00
, G05D 7/06
, H01L 21/302
