特許
J-GLOBAL ID：200903098523126496
LCDガラス基板用常圧CVD装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-298548
公開番号（公開出願番号）：特開平6-101050
出願日： 1991年10月17日
公開日（公表日）： 1994年04月12日
要約：
【要約】【目的】 大型のガラス基板にCVDによって絶縁膜を的確に形成可能にする。【構成】 ガラス基板100をサセプタ28に載置し、サセプタ28を予熱ステーションS1のヒータ31で加熱しつつ処理ステーションS2へ送り、処理ステーションS2でヒータ32によりサセプタ28及びガラス基板100を所定温度に加熱し、CVD処理ノズル43から噴出する反応ガスでガラス基板100の表面に絶縁膜を形成する。処理ステーションS2を出たサセプタ28及びガラス基板100はヒータ33によって急激な温度低下を防止されつつ、ノズル42から噴出される不活性ガス若しくはクリーンエアによって冷却される。
請求項（抜粋）：
ガラス基板を載置するサセプタと、同サセプタをガラス基板の載置面に沿う方向へ往復移動させる駆動装置と、前記サセプタの往工程に沿って順次設けられた予熱ステーション,処理ステーション及び冷却ステーションとからなり、前記予熱ステーションは、サセプタに対向して該サセプタを予熱するヒータと、該サセプタ上に載置されているガラス基板の表面に対向して不活性ガスを噴出するノズルとを有し、前記処理ステーションは、サセプタに対向して該サセプタを所定の処理温度に加熱するヒータと、該サセプタ上に載置されているガラス基板の表面に対向して反応ガスを噴出するCVD処理ノズルとを有し、前記冷却ステーションは、前記処理ステーションに近い側に配置されてサセプタに対向し該サセプタを徐冷するヒータと、該サセプタ上に載置されているガラス基板の表面に対向して冷却用の不活性ガス若しくはクリーンエアを噴出するノズルとを有することを特徴とするLCDガラス基板用常圧CVD装置。
IPC (4件)：
C23C 16/46
, C03C 17/245
, C23C 16/54
, H01B 13/00 503
