特許
J-GLOBAL ID：200903098524039848
シリカ粒子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大西 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-053386
公開番号（公開出願番号）：特開平5-254822
出願日： 1992年03月12日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：
【要約】【目的】 アルコキシシラン、水およびアルコールを含有するアルカリ性の反応液中で、該アルコキシシランを加水分解してシリカ粒子を製造する方法において、シード粒子の生成反応とその成長反応をそれぞれ至適な温度範囲で行い、粒子径の均一なシリカ粒子を得る。【構成】 アルコキシシラン、水およびアルコールを含有するアルカリ性の反応液の温度を0°C以上20°C以下の温度として該アルコキシシランを加水分解することにより、粒子径が1μm以上のシード粒子を生成させた後、このシード粒子を含有する反応液の温度を20°Cを越え50°C以下の温度として該シード粒子を成長させる。
請求項（抜粋）：
アルコキシシラン、水およびアルコールを含有するアルカリ性の反応液中で、該アルコキシシランを加水分解してシリカ粒子を製造する方法において、該反応液の温度を0°C以上20°C以下の温度として該アルコキシシランを加水分解することにより、粒子径が1μm以上のシード粒子を生成させた後、このシード粒子を含有する反応液の温度を20°Cを越え50°C以下の温度として該シード粒子を成長させることを特徴とするシリカ粒子の製造方法。
IPC (2件)：
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